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真空鍍膜設備

科技創(chuàng)新為動力 專業(yè)服務為目標
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產品概述
       多弧離子鍍膜機是近年新開發(fā)的真空離子鍍膜技術，利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術，是先發(fā)展起來的真空鍍膜方式，具有沉積速率高快，結合牢固，設備運行穩(wěn)定等優(yōu)點，我公司在傳統(tǒng)多弧的基礎上，封靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計，提高了離化率，細化顆粒，膜層和基材結合牢固，膜層更加致密，硬度耐磨性提高，適用于鍍制裝飾膜如：金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等，亦可鍍防腐觸膜（如AL、Cr不銹鋼及TIN等）和耐磨膜。膜層與基底結合牢固，適合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的發(fā)展前景。

技術參數
設備型號 VLT-800型 VLT-1000型 VLT-1200型
鍍膜室尺寸 800×1250 1000×1200 1200×1500
極限真空度 ≤4×10-4pa
抽氣時間 從大氣抽至6.6×10-2Pa＜10min
電弧源 6個（2KW/個） 8個（2KW/個） 6個（2KW/個）
直流負偏壓 0-1000V 10A
0-500   20A		 0-1000V 12A
0-500   25A		 0-1000V 20A
0-500   30A
工件尺寸 6軸（220×800） 6軸（250×1000） 6軸（280×1300）
加熱功率 15KW 20KW 25KW
總功率/平均功率 40KW/25KW 50KW/30KW 58KW/35KW
磁控靶（平面或圓柱靶） 10KW 15KW 20KW
氣體質量流量控制儀 三路 三路 三路

設備特性
       生產同期：生產同期短-270sec/1同期（干燥無大量放氣產品條件）
       鍍膜材料：通用于各種金屬鍍膜（鋁、鎳、銅、鉻……等金屬材料）
       鍍膜方式：金屬濺射鍍膜，膜厚分布均勻
       鍍膜品質：亮度高、附著力強
       鍍膜速度：兩個20Kw大功率磁控制濺射電機，可以調動功率來控制鍍膜速度
       除濕能力：真空室內裝有雩下140度以下的低溫冷凍系統(tǒng)，充分吸收濕氣提高真空到達速度
       運營費用：濺射電極是自行開發(fā)產品，大大提高了靶材的使用效率
       占地面精：在固定位置進行上料和下料只要很小的操作空間
       操作方法：人機界面可以直觀的進行設置和監(jiān)控，設有管理密碼無關人員無法更改
       售后服務：設有售后服務中心和配件倉庫，可以快速處理使用中的問題

設備原理圖示
       在適當的真空環(huán)境下，接通高壓電源，在蒸發(fā)源與基片間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區(qū)，基片電極上接直流負高壓，從而形成輝光放電陰極，鍍料氣化原子進入此區(qū)域與惰性氣體離子及電子發(fā)生碰撞，離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面，將蒸發(fā)物或其反應物沉積在積片上。

離子鍍膜原理圖