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       隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，各類真空鍍膜機(jī)也逐漸出現(xiàn)，不管是哪種真空鍍膜機(jī)，薄膜的均勻性都會(huì)受到一些因素的影響。現(xiàn)在，我們就以磁濺射真空鍍膜機(jī)來分析成膜不均勻的因素。
       鍍膜機(jī)抽氣不均會(huì)影響鍍膜均勻性?；蓛艉苤匾?。真空鍍膜前要將基片表面認(rèn)真清潔干凈，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的?；灞砻嫖廴緩牧慵诩庸ぃ\(yùn)輸?shù)冗^程中附著的各種各樣的灰塵、油脂、拋光膏、汗?jié)n等，在潮濕環(huán)境下，基片表面易氧化，形成氧化膜吸附氣體。對(duì)于這些污物，都能用去油或化學(xué)方法清洗干凈。干凈的基片不要直接放在外面，需要用封閉容器存放，減少沾污。鍍膜室內(nèi)也是會(huì)積灰的，所以要清洗鍍膜室內(nèi)，烘烤除氣，并將機(jī)器放置在干凈的環(huán)境里。注意擴(kuò)散泵返油。鍍膜的原材料有很多，如樹脂、硅酮、硅鹽酸、聚合物等，輔料、配方的比列有所不同，薄膜也不同。
       以上就是真空鍍膜機(jī)成膜不均勻的因素。